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Plasma-CVD
Hiermit ist die Erzeugung von Schichten möglich, die lediglich einige Mikrometer dick sind. Das geschieht durch plasmachemische Reaktionen (Chemical Vapour Deposition) von Flüssigkeitsdämpfen oder von verdampfbaren Feststoffen ausgehend. Diese Schichten können z.B. aus den Elementen Ti, Al, C, N, O bestehen, entweder einzeln oder kombiniert. Eine Kombination mit einigen Verfahren zur Plasma-Diffusion und Plasma-Wärmebehandlung ist ebenfalls zu realisieren.
Das Verfahren verbessert den Korrosionsschutz und beugt vorzeitigem Verschleiß vor. Besonders wichtig ist es für den Flugzeugbau, den Werkzeug- und Fahrzeugbau; es wird häufig auch im Maschinenbau eingesetzt – überall dort, wo Bauteile aus Stahl benötigt werden, die selbst größten Belastungen standhalten müssen.
Ein typisches Parameter-Fenster:
Druck: 0,1 bis 500 Pa
Temperatur: 100 bis 600 Grad Celsius
Behandlungsdauer: in Minuten bis Stunden
Plasmaanregung: Gepulster Gleichstrom (Khz), Wechselstrom in Mittelfrequenz (Khz), Hochfrequenz (Mhz) oder durch Mikrowellen (GHz).
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